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派瑞林纳米镀膜技术作为当代工业制造的特殊工业防护涂层技术,备注业界关注。广泛应用于航空航天、电路板、磁性材料、传感器、硅橡胶、密封件、医疗器械、珍贵文物等领域；

派瑞林真空镀膜技术特点（CVD工艺）

Parylene沉积过程为第一步在约150℃温度下将固态原料对二甲苯进行蒸发，第二步是在680℃温度下裂解生成稳定的活性单体，然后活性单体进入室温状态下的沉积室进行聚合沉积，瞬间吸附在基体上聚合成为Parylene薄膜。剩余的气体经冷阱捕集，以避免沉积物进入真空泵。

派瑞林（Parylene）真空覆膜工艺技术的性能特点

Parylene真空覆膜工艺技术的优点是：由于Parylene是一种独特的具有热后可塑性聚合体,Parylene涂层过程是在室温、真空状态下进行，因而，能够渗透并覆盖在需处理的物体上，成膜均匀一致、透明；因为是干态过程，无催化剂或有机溶剂存在，无流挂、流失等液体涂层常见的涂层缺陷，是真正的无针孔涂层膜, 具有极高的绝缘强度和耐高低温、抗腐蚀、耐酸碱、润滑、防尘、防潮、防锈、透明、防水、抗老化、生物相容性等作用；

百腾Penta开发的PVD真空镀膜机，CVD真空镀膜机，XeF2二氟化氙蚀刻机，真空脱气炉，二氟化氙材料、派瑞林材料，提供派瑞林纳米涂层加工。并可根据不同需求设计定制PARYLENE真空镀膜设备和与其配套的相关设备系统，帮助企业产品提升更好防护品质。