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PVD真空设备

型号:PTC-PTAS1215
有效空间:φ1200*1500mm
占地面积:4200*6000*3500
电量:150KW
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产品详情Product Details

大容量灵活模块设计、精确制造

发光二极管

 太阳能集中器电池的基板

 功率半导体封装     包括汽车电机控制

 混合动力    和电动汽车动力管理电子

 射频封装。微波设备

DPC过程-----直接电镀铜是一种被运用在电子行业LED和半导体技术的涂层。其中典型的应用是氧化铝上的铜导电膜沉积涂层  , 通过PVD真空溅射技术制造的基板已成为一体,与传统的制造方法相比,生产成本要低的多。


优势:1、防擦伤   2、延长产品的使用寿命   3、环保工艺   4、简单易懂的操作系统   5、维护简便   6、低成本

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